Custom Graphite Machining
Material-Driven Customization
단순히 도면대로 깎는 가공은 누구나 합니다. (주)한국정밀은 밀도 1.80g/cm³의 경제성 있는 자재부터 G348 등급의 초고밀도 반도체 자재, 그리고 Ash 5ppm 이하의 초고순도 Sputtering Target까지 풍부한 원소재 라인업을 보유하고 있습니다. 고객사의 공정 환경과 예산에 가장 최적화된 맞춤형 솔루션을 제안합니다.
「내가 필요한 등급(Grade)이 준비되어 있는가」에 답하는 단일 공급망
커스텀 흑연 가공의 핵심은 도면의 정밀도를 넘어, 「공정에 딱 맞는 올바른 등급(Grade)의 소재를 선택하는 것」에서 시작됩니다.
(주)한국정밀은 특정 소재만을 고집하지 않는 「오픈 원소재 플랫폼(Open Material Platform)」을 지향합니다.
기계적 강도와 단가가 중요한 일반 산업용 지그부터 나노미터 공정의 신뢰성이 요구되는 반도체 핵심 부품까지, 국내외 최고급 흑연 모재를 기반으로 최적의 비용 대비 성능(ROI)을 설계해 드립니다.
핵심 경쟁력
예산과 스펙을 모두 만족하는 압도적 원소재 다양성
밀도 1.80g/cm³ 수준의 범용 자재부터 글로벌 시장에서 검증된 G348 등급의 최고급 반도체용 흑연까지 모두 보유하고 있습니다. 고객사가 과도한 스펙 설정으로 비용을 낭비하거나, 부적합한 자재로 공정 사고를 겪지 않도록 전문 엔지니어가 소재 컨설팅부터 함께 리드합니다.
99.9995%(5N5)의 극한의 초고순도 Sputtering Target 솔루션
반도체 및 디스플레이 박막 증착에 쓰이는 스퍼터링 타겟(Sputtering Target) 규격을 완벽히 충족합니다. 2,000℃ 이상의 고온 정제 공정을 거쳐 회분(Ash) 함량을 5ppm 이하로 엄격히 통제함으로써, 고에너지 이온 충격 시 가공물에 전이될 수 있는 미량의 불순물 리스크를 완벽하게 차단합니다.
유체역학 및 형상 설계 기반의 Co-Design 프레임
우리는 단순히 도면을 받아 기계만 돌리는 임가공 업체가 아닙니다. 고객사의 부품이 가혹한 열충격, 플라즈마, 강산성 유체 등 어떤 환경에 노출되는지 분석하여 유로 설계 변경, 표면 조도(Ra) 최적화, 특수 함침(금속/규소) 공정까지 함께 설계하는 진정한 엔지니어링 파트너입니다.
결함률 ZERO를 위한 글로벌 표준 품질 보증
3차원 측정기와 비접촉 비전 검사 설비를 통해 마이크로 단위의 정밀도를 전수 검증합니다. 원소재 도입 성적서(Mill Sheet)부터 최종 가공 치수, 로트(Lot)별 이력 추적성까지 완벽한 다큐멘테이션(Documentation)을 제공합니다.
적용 분야
기초 실험실용 자재부터 초 하이엔드 양산 부품까지 — 맞춤형 Graphite 솔루션이 투입되는 핵심 분야.
R&D 및 기업 연구소 커스텀 시제품
보급형 자재를 활용한 기초 실험용 부품부터 5N5·G348 등급을 적용한 하이엔드 국책 과제용 정밀 가공품까지, R&D에 최적화된 다품종 소량 맞춤형 솔루션 제공.
초고순도 박막 증착 (PVD/CVD)
5N5(Ash 5ppm 이하) 등급 소재를 적용한 초고순도 스퍼터링 타겟 및 설비 부품.
반도체·디스플레이 전공정
G348 등급 이상의 고밀도 하이엔드 소재 기반 에칭(Etch), 이온 주입 및 확산 공정용 핵심 부품.
초정밀·기하학적 마이크로 가공
5축 CNC 0.02mm 초정밀 공차를 활용한 미세 홀, 정밀 슬롯, 유체 역학적 커스텀 유로 등 복합 형상 구현.
가공 가능 소재
반도체부터 산업 플랜트까지 — 공정 환경에 최적화된 6가지 핵심 소재 라인업