PECVD Graphite Boat
태양광 셀 PECVD 공정 최적화
고성능 PECVD 공정용 정밀 흑연 솔루션. 차세대 태양광 셀 라인의 공정 안정성과 수율을 동시에 끌어올리는 주력 신제품입니다.
핵심 경쟁력
완벽한 비저항 균일성과 플라즈마 제어 (Uniform Resistivity)
PECVD 보트는 그 자체가 플라즈마를 발생시키는 전극입니다. (주)한국정밀은 보트 전체 영역에서 8~15 µΩ·m의 완벽하게 균일한 비저항(Resistivity) 분포를 보장하는 최고급 등방성 흑연만을 사용합니다. 이는 플라즈마 아킹(Arcing) 현상을 원천 차단하고, 수백 장의 웨이퍼에 증착되는 반사방지막(SiNx)의 두께와 색상 균일도(Color Uniformity)를 완벽하게 일치시킵니다.
고온 크리프(Creep) 방지 및 자동화 설비 호환성 (Dimensional Stability)
무거운 웨이퍼를 싣고 400~600℃ 환경을 반복 출입하는 긴 보트는 중앙부가 아래로 처지는 휨(Bowing/Creep) 현상에 취약합니다. 굴곡 강도 80MPa의 고강도 소재와 응력 해석 기반의 구조 설계로 열변형을 제로화하여, 로봇 암(Robot Arm) 자동 로딩/언로딩 시 발생하는 잼(Jam) 불량을 완벽히 해결합니다.
기공 제어를 통한 코팅 박리(Flaking) 억제 (Particle Control)
공정이 반복될수록 보트 표면에도 기생 박막이 증착됩니다. (주)한국정밀은 Ra < 1.6의 최적화된 표면 조도와 미세 기공 제어 가공을 통해, 증착된 코팅막이 웨이퍼 위로 떨어지는 박리(Flaking) 현상을 지연시킵니다. 이를 통해 장비의 PM(세정) 주기를 기존 대비 20% 이상 연장하고 설비 가동률을 극대화합니다.
차세대 고효율 셀 맞춤형 초정밀 가공 (Advanced Machining)
기존 PERC 셀을 넘어, 더 얇고 민감한 웨이퍼를 다루는 차세대 TOPCon 및 HJT 고효율 태양광 셀 공정에 완벽히 대응합니다. 웨이퍼가 안착되는 슬롯(Slot)의 엣지(Edge)를 마이크로 단위로 정밀 가공하여, 웨이퍼의 긁힘(Scratch) 및 엣지 파손(Chipping)을 원천적으로 차단합니다.
적용 분야
태양광 셀 반사방지막(ARC) 코팅
고효율 PERC·TOPCon 태양전지 제조를 위한 질화규소(SiNx), 산화알루미늄(Al₂O₃) PECVD 증착 공정.
차세대 태양광(HJT) 공정
헤테로정션(HJT) 태양광 셀의 진성 및 도핑 비정질 실리콘(a-Si) 박막 고정밀 증착 공정.
대면적 웨이퍼 캐리어 (Wafer Carrier Assy)
다량의 실리콘 웨이퍼를 안전하게 적재·이송하기 위한 고강성 흑연 조립체(Graphite Assembly).
특수 플라즈마 표면 처리 설비
대면적 디스플레이 및 특수 산업용 글라스의 플라즈마 화학기상증착(CVD)을 위한 전극 겸용 지그.